GQQ5(A)矿用本质**型烟雾传感器电容式MEMS加速度计的工艺一般包括：表面工艺、体硅工艺、Liga工艺和SOI+drie工艺。对这些过程进行了比较。表面技术是在集成电路平面技术的基础上发展起来的一种微技术，它只进行单面光刻。它利用不同材料在硅平面上的顺序沉积和选择性腐蚀来形成各种微结构。主要包括牺牲层沉积、牺牲层刻蚀、结构层沉积、结构层刻蚀、牺牲层去除（释放结构）等。将结构材料悬浮在基板上，形成各种形状的二维或三维结构。

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